APA (7th ed.) Citation

Loo, R. (1996). Selektives Wachstum von Si und SiGe mittels LPCVD im Hinblick auf vertikale MOSFET-Anwendungen.

Chicago Style (17th ed.) Citation

Loo, Rogér. Selektives Wachstum Von Si Und SiGe Mittels LPCVD Im Hinblick Auf Vertikale MOSFET-Anwendungen. 1996.

MLA (9th ed.) Citation

Loo, Rogér. Selektives Wachstum Von Si Und SiGe Mittels LPCVD Im Hinblick Auf Vertikale MOSFET-Anwendungen. 1996.

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