Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik, plasmaindizierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma:
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1
EINLEITUNG
1.1
ZUKUENFTIGE
ANFORDERUNGEN
AN
DIE
LACKTECHNOLOGIE
.
1
1.2
RESULTIERENDE
AUFGABENSTELLUNG
FUER
DIE
ARBEIT
.
5
2
ABLAUF
DER
ARBEITEN
UND
DIE
VERWENDETEN TECHNISCHEN
EINRICHTUNGEN
.
7
2.1
VERWENDETE
TECHNISCHE
EINRICHTUNGEN
FUER
ABSCHEIDUNG,
BELICHTUNG
UND
ENTWICKLUNG
.
8
2.1.1
MEHRKAMMERANLAGE
.
9
2.1.2
ABSCHEIDEKAMMER
.
10
2.1.3
ENTWICKLUNGSKAMMER
.
11
2.1.4
BELICHTUNGSEINRICHTUNGEN
.
11
2.1.4.1
BELICHTUNGSMODUL
.
11
2.1.4.2
KONTAKTBELICHTER
MA150
.
12
3
THEORETISCHE
GRUNDLAGEN
3.1
KENNGROESSEN
DER
LACKTECHNIK
.
13
3.1.1
FORMELN
IM
AETZRATENDIAGRAMM
.
15
3.1.2
FORMELN
IM
KONTRASTDIAGRAMM
.
16
3.1.3
AUFLOESUNG
EINES
LACKSYSTEMS
.
17
3.1.4
SELEKTIVITAET
DER
AETZRATEN
.
18
3.2
ANALYTIK
.
20
3.2.1
ELLIPSOMETRIE
.
20
3.2.2
INFRAROTSPEKTROSKOPIE
.
23
3.2.2.1
SCHWINGUNGSRASSEN
.
23
3.2.2.2
GRUPPENFREQUENZEN
.
24
3.2.2.3
MECHANISCHER
EFFEKT
.
25
3.2.2.4
STERISCHER
EFFEKT
.
26
3.2.2.5
INDUKTIVER
(
CHEMISCHER
)
EFFEKT
.
27
3.2.2.6
MESSUNG
VON
WIRKUNGSQUERSCHNITTEN
.
28
4
ABSCHEIDUNG
DER
LACKSCHICHTEN
4.1
AUSGANGSSUBSTANZEN
.
32
4.1.1
INFRAROTSPEKTROSKOPIE
DER
AUSGANGSSUBSTANZEN
.
35
4.2
DEPOSITEN
.
37
4.2.1
ABSCHEIDUNG
MIT
TRIVINYLMETHYLSILAN
.
37
4.2.2
ABSCHEIDUNG
MIT
MISCHUNGEN
AUS
TVMS
UND
OMCTS
.
41
4.2.3
INFRAROTSPEKTROSKOPIE
DER
ABGESCHIEDENEN
SCHICHTEN
.
47
4.3
ZUSAMMENFASSUNG
ZUR
SCHICHTABSCHEIDUNG
.
50
5
GRUNDLEGENDE
REAKTIONEN
BEI
DER
BELICHTUNG
.
52
5.1
MESSUNG
DER
SCHICHTABSORPTION
IM
ULTRAVIOLETTSPEKTRUM
.
53
5.2
ANALYSE
DER
SCHICHTEN
MITTELS
INFRAROTSPEKTROSKOPIE
.
54
5.2.1
BELICHTUNGEN
MIT
DER
QUECKSILBERNIEDERDRUCKLAMPE
(185
NM
)
.
54
5.2.2
BELICHTUNG
MIT
EXCIMERLASER
BEI
193
NM
(
ARF
)
.
66
5.3
AUSWERTUNG
DER
IR-MESSUNGEN
DURCH
PARAMETRISIERUNG
DER
KURVENVERLAEUFE
.
68
5.4
INTERPRETATION
DER
GEMESSENEN
VORGAENGE
IM
HINBLICK
AUF
MOEGLICHE
REAKTIONSMECHANISMEN
.
72
5.5
ZUSAMMENFASSUNG
ZUR
UNTERSUCHUNG
DER
REAKTIONEN
BEI
DER
BELICHTUNG
.
77
6
TROCKENENTWICKLUNG
DER
LACKSCHICHTEN
IM
HF-PLASMA
_
79
6.1
EINGRENZUNG
DER
BEREICHE
MOEGLICHER
ENTWICKLUNGSPARAMETER
.
80
6.2
NEGATIVE
ENTWICKLUNGSCHARAKTERISTIK
.
82
6
2.1
BELICHTUNG
IN
LUFT
.
82
6.2.2
BELICHTUNG
IN
STICKSTOFF
.
93
6.3
POSITIVE
ENTWICKLUNGSCHARAKTERISTIK
.
96
6.3.1
BELICHTUNG
IN
STICKSTOFF
.
96
6.3.3
BELICHTUNG
IN
LUFT
MIT
VARIATION
DER
AUSGANGSMISCHUNG
.
96
6.4
BIVALENTE
ENTWICKLUNGSCHARAKTERISTIK
.
99
6.4.1
MODELLVORSTELLUNGEN
ZUR
BIVALENTEN
ENTWICKLUNGSCHARAKTERISTIK
.
103
6.5
ZUSAMMENFASSUNG
ZUR
TROCKENENTWICKLUNG
DER
LACKSCHICHTEN
.
104
7
BILDER
BELICHTETER
UND
ENTWICKELTER
STRUKTUREN
.107
7.1
LACK
AUF
SILIZIUM
.
107
7.2
LACK
AUF
POLYIMID
.
109
8
ZUSAMMENFASSUNG,
WERTUNG
DER
ERGEBNISSE
UND
AUSBLICK
.114
ANHANG
121
A
WIRKUNGSQUERSCHNITTE
ZUR
INFRAROTSPEKTROSKOPIE
.
121
A.
1
WIRKUNGSQUERSCHNITTE
BEZOGEN
AUF
DIE
ABSORPTION
AN
DER
PEAKPOSITION
.
121
A.2
INTEGRALE
WIRKUNGSQUERSCHNITTE
.
123
B
PHYSIKALISCHE
GROESSEN
VON
SUBSTANZEN,
WELCHE
IN
DER
ARBEIT
VERWENDET
ODER
ZUM
VERGLEICH
HERANGEZOGEN
WURDEN
.
124
C
SCHLEIFENFUNKTIONEN
.
125
D
AUSWERTUNGEN
ZUR
TROCKENENTWICKLUNG
.
127
D.1
VARIATION
DER
AUSGANGSMISCHUNG
UND
TEMPERUNG
.
127
D.2
AUSWERTUNGEN
ZUR
REAKTIONSKINETIK
BEI
DER
TEMPERUNG
NACH
DER
BELICHTUNG
.
129
D.3
ZUSAMMENSTELLUNG
VON
AKTIVIERUNGSENERGIEN
CHEMISCHER
REAKTIONEN
.
132
LITERATURHINWEIS
.133
DANKSAGUNG
UND
ERKLAERUNG
.136 |
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