(1996). Photorefractive materials: 4 - 5 November 1996, Beijing, China. SPIE.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Photorefractive Materials: 4 - 5 November 1996, Beijing, China. Bellingham, Wash: SPIE, 1996.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Photorefractive Materials: 4 - 5 November 1996, Beijing, China. SPIE, 1996.
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