Fröschle, B. (1997). Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik (Als Ms. gedr.). Shaker.
Chicago Style (17th ed.) CitationFröschle, Barbara. Die Chemische Gasphasenabscheidung Von Titannitrid Durch Einwirkung Von Thermischer Strahlung Auf Monokristalline Siliciumsubstrate Zur Herstellung Von Diffusionsbarrieren in Der Mikroelektronik. Als Ms. gedr. Aachen: Shaker, 1997.
MLA (9th ed.) CitationFröschle, Barbara. Die Chemische Gasphasenabscheidung Von Titannitrid Durch Einwirkung Von Thermischer Strahlung Auf Monokristalline Siliciumsubstrate Zur Herstellung Von Diffusionsbarrieren in Der Mikroelektronik. Als Ms. gedr. Shaker, 1997.