Herstellung und Charakterisierung von gesputterten Bornitrid- und Borcarbid-Schichten und deren Modifikation durch Ionenimplantation:
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| Language: | German |
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Karlsruhe
Forschungszentrum
1995
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| Series: | Forschungszentrum <Karlsruhe>: Wissenschaftliche Berichte
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INHALTSVERZEICHNIS
1.
EINLEITUNG
UND
ZIELSETZUNG
1
2.
GRUNDLAGEN
2.1
SCHICHTHERSTELLUNG
DURCH
SPUTTERN
.
5
2.1.1
SPUTTERPROZESS
.
5
2.1.2
SPUTTER
AUSBEUTE
.
6
2.1.3
ENERGIE
DER
ZERSTAEUBTEN
ATOME
.
7
2.2
MIKROSTRUKTUR
UND
EIGENSCHAFTEN
GESPUTTERTER
SCHICHTEN
.
14
2.2.1
KEIMBILDUNG
UND
KEIMWACHSTUM
.
14
2.2.2
STRUKTURZONENMODELLE
.
19
2.2.3
EINFLUSS
DES
LONENBOMBARDEMENTS
.
23
2.3
MODIFIZIERUNG
DER
SCHICHT
DURCH
LONENSTRAHL-VERFAHR
EN
.
29
2.3.1
MODIFIZIERUNGSPROZESSE
.
29
2.3.2
IONENIMPLANTATION
.
29
2.3.3
STRAHLENSCHAEDEN
.
36
2.3.4
MODIFIZIERUNG
DER
GRENZFLAECHEN
.
38
3.
LITERATURUEBERSICHT
3.1
STRUKTUR
DES
BORNITRIDS
UND
BORCARBIDS
.
40
3.1.1
STRUKTUR
DES
BORNITRIDS
.
40
3.1.2
STRUKTUR
DES
BORCARBIDS
.
45
3.2
HERSTELLUNG
VON
BORNITRID
UND
BORCARBID-SCHICHTEN
DURCH
SPUTTERN
.
47
3.2.1
HERSTELLUNG
VON
BORNITRID-SCHICHTEN
.
47
3.2.2
HERSTELLUNG
VON
BORCARBID-SCHICHTEN
.
52
3.3
MODIFIZIERUNG
DER
SCHICHTEN
DURCH
IONENIMPLANTATION
.
52
3.3.1
IONENIMPLANTATION
.
52
3.3.2
LONENSTRAHLSCHAEDEN
.
53
3.4
ZUSAMMENFASSUNG
54
4.
EXPERIMENTELLES
4.1
SCHICHTHERSTELLUNG
DURCH
SPUTTERN
.
55
4.1.1
HF-SPUTTERANLAGE
.
55
4.1.2
TARGET
.
56
4.1.3
SUBSTRAT
.
57
4.1.4
ABSCHEIDEPARAMETER
.
58
4.2
TEMPERN
DER
SCHICHTEN
.
61
4.3
PLASMA
DIAGNOSE
.
62
4.4
LONENBESTRAHLUNG
.
63
4.4.1
KLASSIFIZIERUNG
DES
BESTRAHLUNGSPROZESSES
.
63
4.4.2
MODIFIZIERUNG
DER
OBERFLAECHE
.
63
4.4.3
MODIFIZIERUNG
DER
GRENZFLAECHE
.
65
4.4.4
LONENIMPLANTATIONSANORDNUNG
.
66
4.5
CHARAKTERISIERUNG
DER
SCHICHTSTRUKTUR
.
68
4.5.1
STRUKTURANALYSE
.
68
4.5.2
BESTIMMUNG
DER
KORNGROESSE
.
71
4.5.3
BESTIMMUNG
DER
TEXTUR
.
72
4.6
CHARAKTERISIERUNG
DER
MORPHOLOGIE
.
72
4.7
BESTIMMUNG
DES
BINDUNGSZUSTANDS
DER
SCHICHTEN
.
74
4.8
BESTIMMUNG
DER
ZUSAMMENSETZUNG
DER
SCHICHTEN
.
74
4.9
CHARAKTERISIERUNG
DER
MECHANISCHEN
EIGENSCHAFTEN
DER
SCHICHTEN
.
78
4.9.1
HAERTE
.
78
4.9.2
ZAEHIGKEITSABSCHAETZUNG
.
84
4.9.3
HAFTFESTIGKEITSABSCHAETZUNG
.
84
4.9.4
SCHICHTEIGENSPANNUNG
.
85
4.10
CHARAKTERISIERUNG
DES
VERSCHLEISSVERHALTENS
DER
SCHICHTEN
86
4.10.1
ANORDNUNG
DES
VERSCHLEISSTESTS
.
86
4.10.2
KENNGROESSEN
.
86
5.
ERGEBNISSE
5.1
HERSTELLUNG
UND
CHARAKTERISIERUNG
VON
BORNITRID
SCHICHTEN
.
88
5.1.1
SPUTTERPROZESS
.
88
5.1.2
ZUSAMMENSETZUNG
GESPUTTERTER
SCHICHTEN
.
94
5.1.3
MIKROSTRUKTUR
GESPUTTERTER
SCHICHTEN
.
100
5.1.4
BINDUNGSZUSTAND
GESPUTTERTER
SCHICHTEN
.
119
5.1.5
PHASENUMWANDLUNG
DES
BORNITRIDS
123
5.1.6
DISKUSSION
DER
HERSTELLUNG
VON
BORNITRID
SCHICHTEN
.
129
5.2
HERSTELLUNG
UND
CHARAKTERISIERUNG
VON
BORCARBID-
SCHICHTEN
.
142
5.2.1
SPUTTERPROZESS
.
142
5.2.2
ZUSAMMENSETZUNG
GESPUTTERTER
SCHICHTEN
.
146
5.2.3
MIKROSTRUKTUR
GESPUTTERTER
SCHICHTEN
.
151
5.2.4
BINDUNGSZUSTAND
GESPUTTERTER
SCHICHTEN
.
170
5.2.5
DISKUSSION
DER
HERSTELLUNG
VON
BORCARBID
SCHICHTEN
.
172
5.3
MECHANISCHE
UND
TRIBOLOGISCHE
EIGENSCHAFTEN
UND
DEREN
MODIFIKATION
DURCH
IONENIMPLANTATION
.
174
5.3.1
BORCARBID-SCHICHTEN
.
174
5.3.2
BORNITRID-SCHICHTEN
.
205
6.
ZUSAMMENFASSENDE
DISKUSSION
UND
AUSBLICK
6.1
SCHICHTHERSTELLUNG
DURCH
SPUTTERTECHNIK
.
219
6.1.1
BORNITRID-SCHICHTEN
.
220
6.1.2
BORCARBID-SCHICHTEN
.
226
6.1.3
BORCARBONITRID-SCHICHTEN
.
228
6.1.4
AUSBLICK
ZUR
SCHICHTHERSTELLUNG
.
229
6.2
MODIFIZIERUNG
DER
SCHICHTEIGENSCHAFTEN
DURCH
IONENIMPLANTATION
.
230
6.2.1
MODIFIZIERUNGEN
IN
OBERFLAECHENNAHE
.
230
6.2.2
MODIFIZIERUNGEN
AN
DER
GRENZFLAECHE
.
231
6
2.3
AUSBLICK
ZUR
MODIFIZIERUNG
DER
SCHICHTEIGEN
SCHAFTEN
DURCH
LONENBESTRAHLUNG
.
232
LITERATURVERZEICHNIS
.
233 |
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