Laserbehandlung von Siliziumnitrid-Siliziumoxid-Silizium-Strukturen für MIS-Inversionsschicht-Solarzellen:
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1. Verfasser: | |
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Sprache: | German |
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1994
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2
INHALTSVERZEICHNIS
SEITE
1.
EINLEITUNG
.
S
2.
GRUNDLAGEN
ZUR
LASERMATERIALBEARBEITUNG
AN
DER
METALL/ISOLATOR/SILIZIUM
(MLS)-INVERSIONSSCHICHT-SOLARZELLE
.
8
2.1.
AUFBAU
UND
FUNKTION
DER
MLS-INVERSIONSSCHICHT-SOLARZELLE
.
8
2.2.
BERECHNUNG
DER
TEMPERATURPROFILE
BEI
LASERBESTRAHLUNG
.
10
2.3.
THERMISCH
AKTIVIERTE
REAKTIONEN
BEI
LASERBESTRAHLUNG
.
13
3.
EXPERIMENTELLES.
.
1
5
3.1.
PROBENHERSTELLUNG
.
15
3.2.
VERWENDETE
LASER.
.
17
3.2.1.
EXCIMERLASER
.
17
3.2.2.
ND:YAG-LASER
.
17
3.2.3.
RUBINLASER
.
18
3.2.4.
COJ-LASER.
.
18
3.3.
PROBENKAMMER
FUER
LASER-OXIDATION
.
18
3.4.
MESSVERFAHREN
.
19
3.4.1.
HELLKENNLINIE
VON
SOLARZELLEN
.
19
3.4.2.
C(U)-MESSUNG
.
21
3.4.2.1.
ERMITTLUNG
DER
GRENZFLAECHENZUSTANDSDICHTE
.
22
3.4.2.2.
BESTIMMUNG
DER
POSITIVEN
LADUNGSDICHTE
.
25
3.4.2.3.
ERMITTLUNG
DES
INVERSIONSSCHICHTWIDERSTANDES.
.
25
3.4.3.
UV/VIS-TRANSMISSIONSMESSUNG
UND
SPEKTROSKOPISCHE
ELLIPSOMETERMESSUNG
.
27
3.4.4.
FOURIER-TRANSFORM-INFRAROT
(FTIR)-TRANSMISSIONSMESSUNGEN
.
29
4.
THERMISCH
AKTIVIERTES
AUSHEILEN
VON
GRENZFLAECHENZUSTAENDEN
MIT
HILFE
VON
LASERSTRAHLUNG
.
31
4.1.
PROBLEMSTELLUNG
.
31
4.2.
RANDBEDINGUNGEN
ZUR
TEMPERATURBEHANDLUNG
DER
SOLARZELLE
MIT
EINEM
LASER.
.
32
4.3.
ERGEBNISSE
ZUM
ZEITLICHEN
AUSHEILVERHALTEN
UND
BESTIMMUNG
DER
3
AKTIVIERUNGSENERGIE
.
36
4.4.
EXTRAPOLATION
DES
AUSHEILVERHALTENS
AUF
KLEINE
ZEITEN
.
39
4.5.
BESTRAHLUNG
VON
SILIZIUMNITRID/SILIZIUMOXID/SILIZIUM-STRUKTUREN
MIT
KURZPULSLASEM
.
41
4.5.1.
EXCIMERLASER-BESTRAHLUNG
.
41
4.5.1.1
TEMPERATURPROFILBERECHNUNGEN
.
41
4.5.1.2
ERGEBNISSE
UND
DISKUSSION
.
42
4.5.2.
ND:YAG-LASER-BESTRAHLUNG
.
44
4.5.3.
RUBINLASERBESTRAHLUNG
.
45
4.5.3.1.
TEMPERATURPROFILBERECHNUNGEN
.
46
4.5.3.2.
ERGEBNISSE
UND
DISKUSSION
.
47
4.6.
AUSHEILUNG
MIT
CO2-LASER
.
48
4.6.1.
ABSORPTIONSVERHALTEN
UND
TEMPERATURPROFILE
.
48
4.6.2.
ERGEBNISSE
UND
DISKUSSION
.
51
4.7.
ZUSAMMENFASSUNG
UND
AUSBLICK
.
53
5.
LASERUNTERSTUETZTE
OXIDATION
VON
SILIZIUM
.
55
5.1.
PROZESSSCHRITTE
.
57
5.2.
ERGEBNISSE
UND
DISKUSSION
.
58
5.2.1.
ABHAENGIGKEIT
DES
OXIDWACHSTUMS
VON
DER
ENERGIEDICHTE
DER
LASERPULSE.59
5.2.2.
ABHAENGIGKEIT
DES
OXIDWACHSTUMS
VON
DER
LASERPULSZAHL
.
61
5.2.2.1.
OXIDWACHSTUM
BEI
DIREKTER
BESTRAHLUNG
.
61
5.2.2.2.
OXIDWACHSTUM
BEI
INDIREKTER
BESTRAHLUNG
.
62
5.2.3.
ABHAENGIGKEIT
DES
OXIDWACHSTUMS
VON
DER
SUBSTRATTEMPERATUR.
.
64
5.2.4.
GRENZFLAECHENZUSTANDDICHTE
UND
POSITIVE
LADUNGSDICHTE
.
66
5.2.4.I.
OXIDATION
BEI
150C
SUBSTRATTEMPERATUR
.
66
5.2.4.2.
OXIDATION
BEI
400C
UND
500C
SUBSTRATTEMPERATUR
.
67
5.2.4.3.
OXIDATION
BEI
PARALLEL
ZUR
PROBENOBERFLAECHE
EINFALLENDEN
LASERSTRAHL
.
70
5.2.4.4.
PASSIVIERUNG
DURCH
NITRIDABSCHEIDUNG
BEI
400C
.
72
5.2.5.
SCHWINGUNGSSPEKTRUM
DER
SI-O-BINDUNGEN
.
73
5.3.
ZUSAMMENFASSUNG
LASEROXIDATION
.
75
6.
UV-BESTRAHLUNG
VON
SILIZIUMNITRIDSCHICHTEN
MIT
DISKRETEN
WELLENLAENGEN
EINES
EXCIMERLASERS
.
77
6.1
VERSUCHSBEDINGUNGEN
UND
AUSWERTEVERFAHREN
.
79
6.1.1.
PROBENSTRUKTUREN
.
79
6.1.2.
LASER-UV-BESTRAHLUNGSBEDINGUNGEN
.
80
4
6.1.3.
NORMIERUNG
AUF
ABSORBIERTE
UND
TRANSMITTIERTE
PHOTONENDICHTEN
.
81
6.2.
MESSERGEBNISSE
.
83
6.2.1.
DEGRADATION
VON
SOLARZELLEN
.
83
6.2.2.
GRENZFLAECHENEIGENSCHAFTEN
AUS
C(U)-MESSUNG
.
85
6.2.3.
AENDERUNG
DER
OPTISCHEN
EIGENSCHAFTEN
VON
SILIZIUMNITRIDSCHICHTEN
IM
UV/VIS-SPEKTRALBEREICH
.
88
6.2.4.
BINDUNGSKONZENTRATIONEN
AUS
IR-TRANSMISSIONSMESSUNGEN
.
91
6.2.4.1.
EXCIMERLASER-UV
-BESTRAHLUNG
.
92
6.2.4.2.
WAERMEBEHANDLUNG
NACH
UV-SCHAEDIGUNG
.
96
6.3.
DISKUSSION
UND ZUSAMMENFASSUNG
.
97
6.3.1.
UV-EINFLUSS
AUF
DIE
GRENZFLAECHENEIGENSCHAFTEN
.
97
6.3.2.
UNTERSCHIEDE
ZWISCHEN
VERSCHIEDENEN
WELLENLAENGEN
.
102
6.3.3.
KORRELATION
DER
VERAENDERUNGEN
AN
DER
GRENZFLAECHE
MIT
DEN
BINDUNGSAUFBRUECHEN
IM
VOLUMEN
DES
NITRIDS
.
103
6.3.4.
VERGLEICH
DER
ABSORPTIONSKONSTANTEN
IM
SICHTBAREN
UND
UV-BEREICH
MIT
DEM
BINDUNGSAUFBRUCH
BEI
UV-BESTRAHLUNG
.
104
7.
ZUSAMMENFASSUNG
.
106
8.
LITERATURVERZEICHNIS
.
110
9.
ANHANG
.
117 |
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spelling | Meixner, Josef Verfasser aut Laserbehandlung von Siliziumnitrid-Siliziumoxid-Silizium-Strukturen für MIS-Inversionsschicht-Solarzellen von Josef Meixner 1994 117 S. zahlr. graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 1994 Laserbearbeitung (DE-588)4139080-5 gnd rswk-swf Solarzelle (DE-588)4181740-0 gnd rswk-swf Siliciumbauelement (DE-588)4181368-6 gnd rswk-swf MIS (DE-588)4139664-9 gnd rswk-swf Elektrische Eigenschaft (DE-588)4193812-4 gnd rswk-swf Grenzfläche (DE-588)4021991-4 gnd rswk-swf Inversionsschichtsolarzelle (DE-588)4162238-8 gnd rswk-swf Mehrschichtsystem (DE-588)4244347-7 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content Inversionsschichtsolarzelle (DE-588)4162238-8 s Siliciumbauelement (DE-588)4181368-6 s Laserbearbeitung (DE-588)4139080-5 s DE-604 Solarzelle (DE-588)4181740-0 s MIS (DE-588)4139664-9 s Mehrschichtsystem (DE-588)4244347-7 s Grenzfläche (DE-588)4021991-4 s Elektrische Eigenschaft (DE-588)4193812-4 s DNB Datenaustausch application/pdf http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=006338484&sequence=000001&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA Inhaltsverzeichnis |
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