Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen: insbes. Einfluß von Stöchiometrie u. Wasserstoffgehalt auf d. Eigenschaften von Plasmanitridschichten
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| Published: |
Eggenstein-Leopoldshafen
Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik
1985
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