Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen: insbes. Einfluß von Stöchiometrie u. Wasserstoffgehalt auf d. Eigenschaften von Plasmanitridschichten
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , |
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| Format: | Buch |
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| Veröffentlicht: |
Eggenstein-Leopoldshafen
Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik
1985
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| Schriftenreihe: | Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht T / 85,1 -
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