APA (7th ed.) Citation

Eichinger, P., & Paduschek, P. (1985). Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen: Insbes. Einfluß von Stöchiometrie u. Wasserstoffgehalt auf d. Eigenschaften von Plasmanitridschichten. Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik.

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Eichinger, Peter, and Peter Paduschek. Analytik Von Dielektrischen Schichten Für VLSI-Anwendungen: Insbes. Einfluß Von Stöchiometrie U. Wasserstoffgehalt Auf D. Eigenschaften Von Plasmanitridschichten. Eggenstein-Leopoldshafen: Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik, 1985.

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Eichinger, Peter, and Peter Paduschek. Analytik Von Dielektrischen Schichten Für VLSI-Anwendungen: Insbes. Einfluß Von Stöchiometrie U. Wasserstoffgehalt Auf D. Eigenschaften Von Plasmanitridschichten. Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik, 1985.

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