Hofzumahaus, A. (1984). Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A)-Radikalen NH/A3Pi/-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Hofzumahaus, Andreas. Bildung, Strahlungslebensdauer, Elektronisches Löschen Und Rotationsrelaxation Von NH(A)-Radikalen NH/A3Pi/-Radikalen Aus Der UV-Photolyse Von Ammoniak Mit Einem ArF-Excimerlaser. 1984.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Hofzumahaus, Andreas. Bildung, Strahlungslebensdauer, Elektronisches Löschen Und Rotationsrelaxation Von NH(A)-Radikalen NH/A3Pi/-Radikalen Aus Der UV-Photolyse Von Ammoniak Mit Einem ArF-Excimerlaser. 1984.
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