Mändl, M. (1991). Eigenschaften von Titannitrid und Titan-Wolfram als Diffusionsbarrieren für die hochintegrierte Mikroelektronik.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Mändl, Matthias. Eigenschaften Von Titannitrid Und Titan-Wolfram Als Diffusionsbarrieren Für Die Hochintegrierte Mikroelektronik. 1991.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Mändl, Matthias. Eigenschaften Von Titannitrid Und Titan-Wolfram Als Diffusionsbarrieren Für Die Hochintegrierte Mikroelektronik. 1991.
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