Oberflächenchemie von Silicium: speziell: Verhalten von Silicium bei der Si3N4-Schlickerguß-Technologie
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Meisel, Ingrid (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:Undetermined
Veröffentlicht: 1989
Schlagworte:
Beschreibung:Bayreuth, Univ., Diss., 1989
Beschreibung:VI, 129 S. Ill., graph. Darst.

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