(1958). Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz (2., neubearb. und erw. Aufl.). Heymann.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Patentgesetz Und Gebrauchsmustergesetz. 2., neubearb. und erw. Aufl. München [u.a.]: Heymann, 1958.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Patentgesetz Und Gebrauchsmustergesetz. 2., neubearb. und erw. Aufl. Heymann, 1958.
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