Bögli, V. (1988). Hochauflösende Elektronenstrahl-Lithographie zur gezielten Herstellung lateraler Strukturen unterhalb 100 nm.
Chicago Style (17th ed.) CitationBögli, Volker. Hochauflösende Elektronenstrahl-Lithographie Zur Gezielten Herstellung Lateraler Strukturen Unterhalb 100 Nm. 1988.
MLA (9th ed.) CitationBögli, Volker. Hochauflösende Elektronenstrahl-Lithographie Zur Gezielten Herstellung Lateraler Strukturen Unterhalb 100 Nm. 1988.
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