Bögli, V. (1988). Hochauflösende Elektronenstrahl-Lithographie zur gezielten Herstellung lateraler Strukturen unterhalb 100 nm.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Bögli, Volker. Hochauflösende Elektronenstrahl-Lithographie Zur Gezielten Herstellung Lateraler Strukturen Unterhalb 100 Nm. 1988.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Bögli, Volker. Hochauflösende Elektronenstrahl-Lithographie Zur Gezielten Herstellung Lateraler Strukturen Unterhalb 100 Nm. 1988.
Achtung: Diese Zitate sind unter Umständen nicht zu 100% korrekt.