APA (7th ed.) Citation

(1968). Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz: Systematischer Kommentar (3. erw. Aufl.). Heymann.

Chicago Style (17th ed.) Citation

Patentgesetz Und Gebrauchsmustergesetz: Systematischer Kommentar. 3. erw. Aufl. Köln ; München [u.a.]: Heymann, 1968.

MLA (9th ed.) Citation

Patentgesetz Und Gebrauchsmustergesetz: Systematischer Kommentar. 3. erw. Aufl. Heymann, 1968.