(1968). Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz: Systematischer Kommentar (3. erw. Aufl.). Heymann.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Patentgesetz Und Gebrauchsmustergesetz: Systematischer Kommentar. 3. erw. Aufl. Köln ; München [u.a.]: Heymann, 1968.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Patentgesetz Und Gebrauchsmustergesetz: Systematischer Kommentar. 3. erw. Aufl. Heymann, 1968.
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