Untersuchungen zur Eignung von Copolymeren mit PMMA als dicke Resistschichten in der Röntgentiefenlithographie:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Göttert, Jost (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:Undetermined
Veröffentlicht: Bonn
Schriftenreihe:Physikalisches Institut <Bonn>: Universität Bonn, Physikalisches Institut / IR 1987,44
Beschreibung:Zugl.: Bonn, Univ., Diplomarb.

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