Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser:
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Book |
| Language: | German |
| Published: |
1984
|
| Subjects: | |
| Item Description: | Bochum, Univ., Diss. |
| Physical Description: | 169 S. |
Staff View
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | BV000314805 | ||
| 003 | DE-604 | ||
| 005 | 00000000000000.0 | ||
| 007 | t | ||
| 008 | 870612s1984 m||| 00||| ger d | ||
| 035 | |a (OCoLC)158090612 | ||
| 035 | |a (DE-599)BVBBV000314805 | ||
| 040 | |a DE-604 |b ger |e rakddb | ||
| 041 | 0 | |a ger | |
| 049 | |a DE-12 |a DE-11 | ||
| 100 | 1 | |a Hofzumahaus, Andreas |e Verfasser |4 aut | |
| 245 | 1 | 0 | |a Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser |
| 246 | 1 | 3 | |a Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von Pi) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser |
| 264 | 1 | |c 1984 | |
| 300 | |a 169 S. | ||
| 336 | |b txt |2 rdacontent | ||
| 337 | |b n |2 rdamedia | ||
| 338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
| 500 | |a Bochum, Univ., Diss. | ||
| 655 | 7 | |0 (DE-588)4113937-9 |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
| 999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-000193074 | ||
Record in the Search Index
| _version_ | 1804114779600584704 |
|---|---|
| any_adam_object | |
| author | Hofzumahaus, Andreas |
| author_facet | Hofzumahaus, Andreas |
| author_role | aut |
| author_sort | Hofzumahaus, Andreas |
| author_variant | a h ah |
| building | Verbundindex |
| bvnumber | BV000314805 |
| ctrlnum | (OCoLC)158090612 (DE-599)BVBBV000314805 |
| format | Book |
| fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>01034nam a2200277 c 4500</leader><controlfield tag="001">BV000314805</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">00000000000000.0</controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">870612s1984 m||| 00||| ger d</controlfield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)158090612</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV000314805</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakddb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-12</subfield><subfield code="a">DE-11</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Hofzumahaus, Andreas</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser</subfield></datafield><datafield tag="246" ind1="1" ind2="3"><subfield code="a">Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von Pi) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="c">1984</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">169 S.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="500" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Bochum, Univ., Diss.</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-000193074</subfield></datafield></record></collection> |
| genre | (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
| genre_facet | Hochschulschrift |
| id | DE-604.BV000314805 |
| illustrated | Not Illustrated |
| indexdate | 2024-07-09T15:12:09Z |
| institution | BVB |
| language | German |
| oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-000193074 |
| oclc_num | 158090612 |
| open_access_boolean | |
| owner | DE-12 DE-11 |
| owner_facet | DE-12 DE-11 |
| physical | 169 S. |
| publishDate | 1984 |
| publishDateSearch | 1984 |
| publishDateSort | 1984 |
| record_format | marc |
| spelling | Hofzumahaus, Andreas Verfasser aut Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von Pi) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser 1984 169 S. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Bochum, Univ., Diss. (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
| spellingShingle | Hofzumahaus, Andreas Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser |
| subject_GND | (DE-588)4113937-9 |
| title | Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser |
| title_alt | Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von Pi) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser |
| title_auth | Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser |
| title_exact_search | Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser |
| title_full | Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser |
| title_fullStr | Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser |
| title_full_unstemmed | Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser |
| title_short | Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser |
| title_sort | bildung strahlungslebensdauer elektronisches loschen und rotationsrelaxation von nh a3 nh a radikalen aus der uv photolyse von ammoniak mit einem arf excimerlaser |
| topic_facet | Hochschulschrift |
| work_keys_str_mv | AT hofzumahausandreas bildungstrahlungslebensdauerelektronischesloschenundrotationsrelaxationvonnha3nharadikalenausderuvphotolysevonammoniakmiteinemarfexcimerlaser AT hofzumahausandreas bildungstrahlungslebensdauerelektronischesloschenundrotationsrelaxationvonpinharadikalenausderuvphotolysevonammoniakmiteinemarfexcimerlaser |