APA (7th ed.) Citation

Hofzumahaus, A. (1984). Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser.

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Hofzumahaus, Andreas. Bildung, Strahlungslebensdauer, Elektronisches Löschen Und Rotationsrelaxation Von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen Aus Der UV-Photolyse Von Ammoniak Mit Einem ArF-Excimerlaser. 1984.

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Hofzumahaus, Andreas. Bildung, Strahlungslebensdauer, Elektronisches Löschen Und Rotationsrelaxation Von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen Aus Der UV-Photolyse Von Ammoniak Mit Einem ArF-Excimerlaser. 1984.

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