Keramische Schutzschichten durch chemische Gasphasenabscheidung:
Gespeichert in:
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| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Aachen
Shaker
2002
|
| Schriftenreihe: | Berichte aus der Verfahrenstechnik
|
| Schlagworte: | |
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| Beschreibung: | 228 S. Ill., graph. Darst., 21 cm |
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INHALTSVERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
UND
ZIEL
1
2
GRUNDLAGEN
5
2.1
CHEMISCHE
GASPHASENABSCHEIDUNG
(CVD)
.
5
2.1.1
PROZESSEINORDNUNG
.
5
2.1.2
PROZESSKLASSIFIZIERUNG
.
6
2.1.3
PRECURSOREN
.
7
2.1.4
REAKTIONSTYPEN
.
9
2.1.5
PROZESS-BESCHREIBUNG
.
9
2.2
MODELLENTWICKLUNG
.
17
2.3
SCHICHTAUFBAU
.
20
2.4
ANALYTIK
.
22
2.4.1
ELEKTRONENNIIKROSKOPIE
UND
-SPEKTROSKOPIE
.
22
2.4.2
SONSTIGE
ANALYTIK
.
25
2.5
STAND
DER
TECHNIK
.
27
2.5.1
CVD
VON
SILIZIUMKARBID
.
27
2.5.2
CVD
VON
HAFNIUMKARBID
.
45
2.5.3
OXIDATIONSSCHUTZSCHICHTEN
.
52
2.5.4
MODELLIERUNG
VON
CVD-PROZESSEN
.
57
3
EXPERIMENTELLER
TEIL
60
3.1
CVD-ANLAGEN
UND
PROZESSPARAMETER
.
'60
3.1.1
CVD
VON
SIC
.
60
3.1.2
CVD
VON
HFC
.
64
INHALTSVERZEICHNIS
II
4
ERGEBNISSE
UND
DISKUSSION
68
4.1
CHEMISCHE
GASPHASENABSCHEIDUNG
VON
SIC
.
68
4.1.1
REAKTIONSSYSTEM:
MTS
UND
WASSERSTOFF
.
68
4.1.2
PROZESSBETRACHTUNG
.
71
4.1.3
CHARAKTERISIERUNG
DER
SIC-SCHICHTEN
.
79
4.1.4
MODELLIERUNG
DER
SIC-ABSCHEIDUNG
.
86
4.1.5
ZUSAMMENFASSUNG
.
106
4.2
CHEMISCHE
GASPHASENABSCHEIDUNG
VON
HFC
.
110
4.2.1
IN
SITU
CHLORIERUNG
VON
HAFNIUM
.
110
4.2.2
REAKTIONSSYSTEM:
HAFNIUMCHLORID,
METHAN
UND
WASSERSTOFF
.
114
4.2.3
PROZESSBETRACHTUNG
.
116
4.2.4
CHARAKTERISIERUNG
DER
HFC-SCHICHTEN
.
130
4.2.5
MODELLIERUNG
DER
HFC-ABSCHEIDUNG
.
137
4.2.6
ZUSAMMENFASSUNG
.
151
4.3
HFC/SIC
BASIERTE
OXIDATIONSSCHUTZSCHICHTEN
FUER
C/C-VERBUNDWERKSTOFFE
155
4.3.1
CHARAKTERISIERUNG
.
155
4.3.2
OXIDATIONSVERHALTEN
.
159
4.3.3
ZUSAMMENFASSUNG
.
162
5
ABSCHLIESSENDE
BETRACHTUNGEN
164
5.1
ZUSAMMENFASSUNG
.
164
5.2
ZUKUNFTSPERSPEKTIVEN
.
167
5.3
WIRTSCHAFTLICHKEITSBETRACHTUNG
.
168
LITERATURVERZEICHNIS
169
A
SYMBOLVERZEICHNIS
197
B
KENNZAHLEN
204
B.L
KENNZAHLENDEFINITIONEN
.
204
B.2
RE
UND
KN-KENNZAHLEN
FUER
DIE
CVD
VON
SIC
.
206
B.3
RE
UND
KN-KENNZAHLEN
FUER
DIE
CVD
VON
HFC
.
206
C
GRUNDGLEICHUNGEN
207
INHALTSVERZEICHNIS
III
D
THERMODYNAMISCHE
BERECHNUNGEN
208
D.L
CVD
VON
SIC
IM
SYSTEM
SI-C-H-CL
.
208
D-2
IN
SITU
CHLORIERUNG
VON
HF
IM
SYSTEM
HF-H-CL
.
212
D.3
CVD
VON
HFC
IM
SYSTEM
HF-C-H-CL
.
213
E
ESMA-ANALYSEN
217
F
CVD-ANLAGEN-PARAMETER
220
F.L
TEMPERATURPROFILE
.
220
G
STOFFDATEN
222
G.L
STOFFEIGENSCHAFTEN
-
PRECURSOREN
.
222
G.1.1
METHYLTRICHLORSILAN
.
222
G.L.
2
HAFNIUMPULVER
.
224
G.1.3
HAFNIUM(IV)CHLORID
.
224
G.2
STOFFEIGENSCHAFTEN
-
SCHICHTMATERIALIEN
.
225
G.2.1
SILIZIUMKARBID
.
228
G.2.2
HAFNIUMKAI'BID
.
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