Laserstrahlungsunterstützte PVD-Keramik-Schichten: Charakterisierung und Anwendungspotential
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Meckenheim
Warlich
1993
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INHALTSVERZEICHNIS
0.
ZUSAMMENFASSUNG
1
1.
EINLEITUNG
3
2.
VERFAHREN
DER
DUENNSCHICHTTECHNOLOGIE
6
2.0
EINLEITUNG
6
2.1
DICKSCHICHTVERFAHREN
7
2.2
CHEMICAL
VAPOUR
DEPOSITION
(CVD)
8
2.3
PHYSICAL
VAPOUR
DEPOSITION
(PVD)
11
2.3.1
SPUTTER-VERFAHREN
12
2.3.2
ARC-VERDAMPFEN
14
2.3.3
ELEKTRONENSTRAHLVERDAMPFEN
15
2.3.4
KOMBINIERTE
VERFAHREN
16
2.4
LASERSTRAHLUNGSUNTERSTUETZTES
PVD-VERFAHREN
17
3.
GRUNDLAGEN
DES
LPVD-VERFAHRENS
19
3.0
EINLEITUNG
19
3.1
MATERIALAUSWAHL
22
3.2
MATERIALABTRAG
VOM
TARGET
23
3.3
MATERIALABSCHEIDUNG
25
3.4
SCHICHTWACHSTUMS
26
3.5
GEFUEGESTRUKTUREN
30
3.6
ABGRENZUNG
DES
LPVD-VERFAHRENS
35
II
4.
EXPERIMENTELLER
AUFBAU
DES
LPVD-VERFAHRENS
37
4.0
EINLEITUNG
37
4.1
ANFORDERUNGSPROFIL
AN
EINE
LPVD-ANLAGE
37
4.2
AUSLEGUNG
DER
ANLAGE
39
4.3
LASERSTRAHLQUELLEN
44
5.
SCHICHTCHARAKTERISIERUNG
48
5.0
EINLEITUNG
48
5.1
MORPHOLOGIE
UND
TOPOGRAPHIE
48
5.2
KRISTALLOGRAPHISCHE
STRUKTUR
49
5.3
CHEMISCHE
ZUSAMMENSETZUNG
49
5.4
MECHANISCHE
EIGENSCHAFTEN
50
5.5
CHEMISCHE
EIGENSCHAFTEN
51
5.6
ELEKTRISCHE
EIGENSCHAFTEN
51
6.
SCHICHTABSCHEIDUNG
MIT
GEPULSTER
CO2
STRAHLUNG
52
6.0
EINLEITUNG
52
6.1
VARIATION
DER
ENERGIEDICHTE
AUF
DEM
TARGET
52
6.2
VARIATION
DES
TARGET-SUBSTRAT-ABSTANDES
55
6.3
EINFLUSS
DER
EINKOPPLUNG
VON
HOCHFREQUENZ-FELDERN
60
6.4
EINFLUSS
DES
PROZESSGASES
AUF
DIE
SCHICHTBILDUNG
63
6.5
EINFLUSS
DER
SUBSTRAT-TEMPERATUR
64
6.6
EIGENSCHAFTEN
DER
SCHICHTEN
65
6.7
ABSCHEIDUNG
VON
BN-SCHICHTEN
69
6.8
ZUSAMMENFASSUNG
73
III
7.
SCHICHTABSCHEIDUNG
MIT
KONTINUIERLICHER
CO2
STRAHLUNG
75
7.0
EINLEITUNG
75
7.1
PROBLEMATIK
DES
ABTRAGES
75
7.2
SCHICHTABSCHEIDUNG
76
7.3
ZUSAMMENFASSUNG
79
8.
SCHICHTABSCHEIDUNG
MIT
ND:YAG
STRAHLUNG
80
8.0
EINLEITUNG
80
8.1
PROBLEMATIK
DES
ABTRAGES
80
8.2
SCHICHTABSCHEIDUNG
81
8.3
ZUSAMMENFASSUNG
84
9.
SCHICHTABSCHEIDUNG
MIT
EXCIMER
STRAHLUNG
85
9.0
EINLEITUNG
85
9.1
EINFLUESSE
VERSCHIEDENER
PROZESSPARAMETER
AUF
DIE
SCHICHTEN
85
9.2
ABSCHEIDUNG
NICHTOXIDISCHER
SCHICHTEN
91
9.3
HERSTELLUNG
MEHRKOMPONENTIGER
SCHICHTSYSTEME
94
9.4
ZUSAMMENFASSUNG
101
10.
ANWENDUNGSPOTENTIAL
DER
VERSCHIEDENEN
LPVD-SCHICHTEN
103
10.0
EINLEITUNG
103
10.1
ANWENDUNG
DER
LPVD-SCHICHTEN
ALS
TECHNISCHE
SCHUTZSCHICHT
103
10.2
ANWENDUNG
DER
LPVD-SCHICHTEN
ALS
FUNKTIONELLE
SCHICHT
MIT
ELEKTRONISCHEN
EIGENSCHAFTEN
105
10.3
TECHNISCHE
REGELN
ZUR
GEZIELTEN
DARSTELLUNG
VON
SCHICHTEN
105
10.4
ZUSAMMENFASSUNG
107
IV
11.
ANHANG
108
A.L
(REFLEXIONSSPEKTREN
DER
TARGES)
108
A.2
(DIVERGENZ
DES
MATERIALSTROMES)
109
A.3
(ELEKTRONENBEUGUNG
AN
A1
2
O
3
SCHICHT)
110
A.4
(STM
BILD
EINER
TI
SCHICHT)
111
A.5
(TECHNISCHE
REGELN
ZUR
ABSCHEIDUNG)
112
12.
LITERATURVERZEICHNIS
114 |
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