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Einbau von Wasserstoff in aus der Plasmaphase abgeschiedenen Schichten auf Siliziumbasis und dessen Einfluß auf mechanische Schichtparameter von Paduschek, Peter
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Einbau von Wasserstoff in aus der Plasmaphase abgeschiedenen Schichten auf Siliziumbasis und dessen Einfluß auf mechanische Schichtparameter von Paduschek, Peter
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Einbau von Wasserstoff in aus der Plasmaphase abgeschiedenen Schichten auf Siliziumbasis und dessen Einfluß auf mechanische Schichtparameter von Paduschek, Peter
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Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten von Eichinger, Peter, Paduschek, Peter
Veröffentlicht 1985Signatur: Wird geladen …
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Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen insbes. Einfluß von Stöchiometrie u. Wasserstoffgehalt auf d. Eigenschaften von Plasmanitridschichten von Eichinger, Peter, Paduschek, Peter
Veröffentlicht 1985Signatur: Wird geladen …
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Einbau von Wasserstoff in aus der Plasmaphase abgeschiedenen Schichten auf Siliziumbasis und dessen Einfluß auf mechanische Schichtparameter von Paduschek, Peter
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