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Einfluß von Verunreinigungen von Quarz aif die Reinheit geglühter Halbleiteroberflächen von Fränz, I., Langheinrich, W.
Veröffentlicht 1968Signatur: Wird geladen …
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Maskierwirkung, Fremdstoffgehalt und Infraotabsorption verschiedener SiO2-Schichten von Fränz, I., Langheinrich, W.
Veröffentlicht 1968Signatur: Wird geladen …
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