Charakterisierung von Metallen und Metall-Silicium-Schichtsystemen mittels Röntgenstreuung:
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Göttingen
Cuvillier
2003
|
| Ausgabe: | 1. Aufl. |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Inhaltsverzeichnis |
| Beschreibung: | VIII, 123 S. Ill., graph. Darst. |
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INHALTSVERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
1
2
EXPERIMENTELLE
UND
THEORETISCHE
GRUNDLAGEN
5
2.1
SCHICHTPRAEPARATION
UND
BESCHICHTUNGSANLAGE
.
5
2.1.1
BESCHREIBUNG
DER
BESCHICHTUNGSANLAGE
.
5
2.1.2
BESCHICHTUNGSPROZESSE
.
6
2.1.2.1
KATHODENZERSTAEUBUNG
-
DC-MAGNETRON-SPUTTERN
.
6
2.1.2.2
PLASMAUNTERSTUETZTE
CHEMISCHE
GASPHASENABSCHEIDUNG
.
8
2.1.3
MATERIALIEN
UND
SUBSTRATE
.
8
2.2
ROENTGENSTREUMETHODEN
.
12
2.2.1
ROENTGENREFLEKTOMETRIE
.
13
2.2.1.1
REFLEKTION
VON
ROENTGENSTRAHLEN
.
13
2.2.1.2
MESSAUFBAU
FUER
DIE
REFLEKTOMETRIE
.
15
2.2.2
DIFFRAKTOMETRIE
AN
DUENNEN
SCHICHTEN
.
16
2.2.2.1
BESTIMMUNG
DER
TEILCHENGROESSE
UND
DER
INHOMOGENEN
VER
SPANNUNGEN
17
2.2.2.2
MESSAUFBAU
-
DUENNSCHICHTGEOMETRIE
.
18
2.2.2.3
MESSAUFBAU
-
BRAGG-BRENTANO
.
19
2.2.3
TEXTURANALYSE
.
19
2.2.3.1
VORZUGSRICHTUNG
UND
TEXTUR
.
19
2.2.3.2
MESSAUFBAUTEN
.
21
2.2.4
SPAMNMGSANALYSE
.
23
2.2.4.1
SIN
2
^-METHODE
.
23
2.2.4.2
MESSAUFBAU
.
24
2.2.5
KLEINWINKELSTREUUNG
.
25
2.3
ERGAENZENDE
UNTERSUCHUNGSMETHODEN
.
25
2.3.1
ELEKTRONENMIKROSKOPIE
.
25
2.3.2
OBERFLAECHENANALYSE
.
26
II
INHALTSVERZEICHNIS
2.3.2.1
QUANTITATIVE
UND
QUALITATIVE
BESCHREIBUNG
VON
OBERFLAECHEN
26
2.3.2.2
GERAETE
ZUR
OBERFLAECHENANALYSE
.
27
2.3.3
PHOTO
UND
AUGER-ELEKTRONENSPEKTROSKOPIE
.
29
3
ERGEBNISSE
UND
DISKUSSION
31
3.1
STRUKTURELLE
EIGENSCHAFTEN
VON
MO-SCHICHTEN
.
31
3.1.1
UNTERSUCHUNG
DER
STRUKTUR
ALS
FUNKTION
DES
ARGONDRUCKES
.
31
3.1.1.1
REFLEKTOMETRIE
UND
REM
.
31
3.1.1.2
KLEINWINKELSTREUUNG
.
35
3.1.1.3
DIFFRAKTOMETRIE
UND
TEXTUR
.
36
3.1.2
UNTERSUCHUNGEN
ZUR
LATERALEN
HOMOGENITAET
DER
SCHICHTEN
.
43
3.1.2.1
RASTERELEKTRONENMIKROSKOPIE
.
44
3.1.2.2
TEXTURUNTERSUCHUNGEN
.
46
3.2
STRUKTUR
VON
WOLFRAM-SCHICHTEN
.
52
3.2.1
DIFFRAKTOMETRIE
UND
XPS
-
KLAERUNG
DER
STRUKTUR
DES
SS
WOLFRAMS
.
52
3.2.2
W-STRUKTUR
ALS
FUNKTION
DES
ARGONDRUCKES
.
61
3.2.2.1
DIFFRAKTOMETRIE
AN
GESPUTTERTEN
SCHICHTEN
.
61
3.2.2.2
REFLEKTOMETRIE
.
62
3.2.2.3
TEXTURUNTERSUCHUNGEN
.
64
3.2.2.4
ANALYSE
INHOMOGENER
VERSPANNUNGEN
.
72
3.3
MOLYBDAEN-SILICIUM-DREISCHICHTSYSTEME
.
76
3.3.1
DREISCHICHTSYSTEME
.
76
3.3.1.1
REFLEKTOMETRIE
UND
XPS-UNTERSUCHUNGEN
.
76
3.3.1.2
TEM-UNTERSUCHUNGEN
.
81
3.3.1.3
DIFFRAKTOMETRIE
.
84
3.4
WOLFRAM-SILICIUM-SCHICHTSYSTEME
.
89
3.4.1
REFLEKTOMETRIE
AN
W/SI-DREISCHICHTSYSTEME
.
89
3.4.2
TEM
AN
W/SI-DREISCHICHTSYSTEME
.
90
3.5
METALL/SILICIUM-MEHRSCHICHTSYSTEME
.
93
3.5.1
MO/SI-MEHRSCHICHTSYSTEME
-
VERGLEICH
DER
SI-DEPOSITIONSVERFAHREN
93
3.5.2
DAS
WBLFRAM-SILICIUM-MEHRSCHICHTSYSTEM
W212
.
98
4
ZUSAMMENFASSUNG
UND
AUSBLICK
103
5.
LITERATUR
105
A
PUBLIKATIONSVERZEICHNIS
117
B
DANKSAGUNG
121
INHALTSVERZEICHNIS
C
LEBENSLAUF
III
123 |
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