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Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3pi)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser von Hofzumahaus, Andreas
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Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH/A3p/-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser von Hofzumahaus, Andreas
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Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3) [NH(A)]-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser von Hofzumahaus, Andreas
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4
Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A)-Radikalen NH/A3Pi/-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser von Hofzumahaus, Andreas
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5
Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH (A)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser von Hofzumahaus, Andreas
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