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Untersuchung der atomaren Rauhigkeit der Si-SiO2-Grenzfläche sowie ihr Einfluß auf die Beweglichkeit in MOS-Transistoren von Hahn, Peter Otto
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Untersuchung der atomaren Rauhigkeit der Si-SiO(2) Grenzfläche sowie ihr Einfluß auf die Beweglichkeit in MOS-Transistoren von Hahn, Peter Otto
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Untersuchung der atomaren Rauhigkeit der Si-SiO2-Grenzfläche sowie ihr Einfluß auf die Beweglichkeit in MOS-Transistoren von Hahn, Peter Otto
Veröffentlicht 1982Signatur: Wird geladen …
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Untersuchung der atomaren Rauhigkeit der Si-Si02 Grenzfläche sowie ihr Einfluß auf die Beweglichkeit in MOS-Transistoren von Hahn, Peter Otto
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