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    Chemical mechanical planarization of microelectronic materials

    Chemical mechanical planarization of microelectronic materials von Steigerwald, Joseph M., Murarka, Shyam P., Gutmann, Ronald J.

    Veröffentlicht 1997
    Buch Fernleihe Bestellen


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    Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology

    Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology von Borst, Christopher L., Gill, William N., Gutmann, Ronald J.

    Veröffentlicht 2002
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    Copper - fundamental mechanisms for microelectronic applications

    Copper - fundamental mechanisms for microelectronic applications von Murarka, Shyam P., Verner, Igor V., Gutmann, Ronald J.

    Veröffentlicht 2000
    Buch Fernleihe Bestellen


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    Copper-fundamental mechanisms for microelectronic applications

    Copper-fundamental mechanisms for microelectronic applications von Murarka, Shyam P., Verner, Igor V., Gutmann, Ronald J.

    Veröffentlicht 2000
    Buch Fernleihe Bestellen


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