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    Die Charakterisierung vergrabener Schichten nach umdotierender Ionenimplantation in Silizium im Hinblick auf das "burried channel charge-coupled device"

    Die Charakterisierung vergrabener Schichten nach umdotierender Ionenimplantation in Silizium im Hinblick auf das "burried channel charge-coupled device" von Bach, H.-G

    Veröffentlicht 1981
    Abschlussarbeit Buch Fernleihe Bestellen


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    Die Charakterisierung vergrabener Schichten nach umdotierender Ionenimplantation in Silizium im Hinblick auf das Buried Channel Charge-Coupled Device

    Die Charakterisierung vergrabener Schichten nach umdotierender Ionenimplantation in Silizium im Hinblick auf das Buried Channel Charge-Coupled Device von Bach, H.-G

    Veröffentlicht 1981
    Buch Fernleihe Bestellen


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